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等離子化學(xué)氣相沉積-PECVD，為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行，利用了等離子體的活性來促進(jìn)反應(yīng)，因而這種CVD稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法。它是由500W射頻電源、1200℃單溫區(qū)管式爐、三通道質(zhì)量流量混氣系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成。此款設(shè)備用于生長納米線、石墨烯或SIC薄膜等
更新時間：2026-01-30
瀏覽次數(shù)：37
微量探索型熱處理回轉(zhuǎn)爐適用于粉末材料回轉(zhuǎn)燒結(jié)，物料均勻旋轉(zhuǎn)受熱效果好。石英爐管放置于爐體中間，爐管另一端采用卡箍連接旋轉(zhuǎn)密封組件，方便物料出入及管內(nèi)氣壓監(jiān)測。
更新時間：2026-01-23瀏覽次數(shù)：51
ZYXG-1200系列氣氛箱管熱處理混合爐采用優(yōu)質(zhì)電阻絲作為加熱元件,額定溫度1100℃,最高溫度可達(dá)1200℃(≤30min)。作為單純的箱式爐用,可對樣品在空氣環(huán)境下進(jìn)行熱處理;作為管式爐用,可對樣品在真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下進(jìn)行熱處理;采用宇電智能控溫儀表和K型熱電偶,可編程30段程序控溫,控溫精度±1C。可應(yīng)用于氣氛下燒結(jié)等實驗環(huán)境。內(nèi)置雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu),表面溫度≤60℃
更新時間：2026-01-23瀏覽次數(shù)：40
ZYX-1200 系列桌面級真空氣氛熱處理箱式爐是一款專為低氧熱處理場景設(shè)計的高精度設(shè)備，憑借優(yōu)異的真空性能與精準(zhǔn)溫控能力，為材料加工提供潔凈、穩(wěn)定的處理環(huán)境，廣泛適用于科研實驗與小批量生產(chǎn)。真空腔體密封嚴(yán)密，可快速抽至目標(biāo)真空度，有效隔絕空氣，避免材料氧化、脫碳，保障處理后材料的純度與性能；搭載智能控溫系統(tǒng)與高靈敏熱電偶，控溫精度高，支持多段程序升溫，適配不同材料的退火、燒結(jié)、回火等工藝需求。
更新時間：2026-01-23瀏覽次數(shù)：35
高溫高壓管式熱處理爐是專為材料高溫處理、催化劑制備及特種材料研發(fā)設(shè)計的高精度科研設(shè)備。可實現(xiàn)陶瓷、金屬氧化物、半導(dǎo)體材料的高溫高壓煅燒,負(fù)載型催化劑的活性組分焙燒與活化,以及石墨烯、碳納米管等納米材料的高溫合成與熱處理,為高校、科研院所、企業(yè)研發(fā)中心提供“高溫+高壓+精準(zhǔn)氣氛控制”的多維度材料制備與改性平臺，滿足材料品體生長、相結(jié)構(gòu)調(diào)控、性能優(yōu)化等研究需求。
更新時間：2026-01-26瀏覽次數(shù)：322